Alpsitec >> CMP >> Products >> Pcox 200S

可直接将由 Pcox200 S 处理的流程转移到其他 Pcox 20X 系列机器。
可以并容易地将Pcox200 S 型号升级到Pcox20X系列而不会废弃旧设备
装载和卸除在位于操作员面前的基盘进行。在干燥后对晶圆片的喷洗。

功能介绍
Pcox 200 S 在研究与发展领域的化学抛光应用中占有独特的地位。实际上,它是 Pcox 20X 家族 系列机器的先驱。Pcox 20X 家族系列是一组不同模型的机器,提供包括 2组,3组 或4组抛光模型。Pcox 200 S 是其中的一种,单独工作,用以对抛光流程的设计。
它提供所有生产所需的具体规格:
由计算机和自动化组件 PLC 的完全控制
自动载入或卸除抛光头
多重抛光步骤
兼容从 4 英寸 到 8 英寸的晶圆片
抛光原始位置和随后位置的环境控制
整合的抛光液泵装置
快速换装承载底盘,晶圆托盘和环境控制组件

为了节省空间和成本,采取手动晶圆片装载方式,并提供Pcox 20X 系列机器相同的生产特定规格.

规格描述

紧凑而独立工作的机器
运送货盘由人工装载和卸载
运送货盘提供在晶圆片装卸过程中的缓冲功能
独特的快速换装晶圆托盘
独特的快速换装环境控制装置
独特的快速换装承载基盘
具有大规格的环境控制工具:直径从100毫米到225毫米
抛光基盘直径550毫米
非常开放的系统架构:易于清洗
对来自承载基盘的抛光液溢溅给予保护
整合的真空抽取装置
很小占地:只有0.95米 X 1.12米
无需多余的电力控制橱
易于维护:可推拉的仪器组箱装置件更易装卸和维护
附加对抛光基盘温度调节的系统
内置端点检测界面
一个抛光液泵(三个可供选择)

可供选择

抛光端点检测:DFA2系统
基盘温度控制系统
附加的抛光液泵(多至三个可供选择)
改良的成套工具应对不同直径的晶圆片:4,5,6英寸(内置8英寸)
酸硷度pH控制


技术数据


承载托盘 晶圆片直径 4’’, 5’’, 6’’, 200毫米槽口型 (可选择平面型)
转动速度 15 - 150 rpm
背面压力 0 - 100 kPa
抛光力 0 - 3000 N
摆动振幅 0 -最大
摆动速度 0 - 0.35 米/秒
Work on the 2 sectors of the pad
抛光基盘 直径 550毫米
转动速度 15 – 150 转每分钟
抛光液 0 - 250毫升/分钟
环境控制 工具种类 钻石环 (标准化) 毛刷, 磁盘 (可选择)
工具直径 100 – 225 毫米
压力 20 – 300 N
转动速度 10 – 70转每分钟
摆动速度 0 – 0.9米/秒
端点 内置端点检测界面: DFA2对於 Alpsitec 或者其他系统
电源 抛光头电机 0.75 kW
基盘电机 2.20 kW
环境控制电机 0.37 kw
基本配给 电压 220V or 400V 3 ph
压缩空气 6 bars
氮气 2 bars
DI水 1 bar
消耗 电力 1 - 2 KWH
压缩空气 6-7 bar
氮气 2 bar
DI水 50升每小时
真空 内置 泵
外观 WxDxH 950x1190x2480毫米
重量 1200 kg
占地面积 1,13 m2
热交换 (可选择) 大概 365*597*622毫米(WxDxH)

表中所列数据会根据具体设计的变化而调整。

如您想了解更多信息,请联系 : Vincent Xu